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GeminiSEM 560 場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）

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FE-SEM滿足亞納米成像、分析和樣品靈活性的高要求

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蔡司GeminiSEM可助您輕松實現亞納米級分辨率的成像。出色的成像和分析技術更使FE-SEM（場發射掃描電子顯微鏡）如虎添翼。采用創新的電子光學系統和全新樣品倉設計，不僅操作更加簡便，用途更加靈活多樣，還可為您帶來更高的圖像質量。無需水浸物鏡即可拍攝低于1 kV的亞納米級圖像。

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Gemini電子光學系統的三種設計：

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●　GeminiSEM 360 — 分析測試平臺的理想選擇

●　GeminiSEM 460 — 實現高效分析

●　GeminiSEM 560 — 表面成像的新標準

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GeminiSEM 560

探索表面成像新標準：Gemini 3鏡筒搭載全新的電子光學引擎Smart Autopilot，使樣品能夠在低于1 kV、分辨率低于1 nm的條件下進行無漏磁成像，且無需樣品臺偏壓或單色器，可在您的工作條件下達到理想效果。

 

輕松實現1 kV以下成像

★　Gemini 3鏡筒在低于1 kV、分辨率低于1 nm的條件下進行無漏磁成像，且無需樣品臺偏壓或單色器。其包含Nano-twin物鏡和全新的電子光學引擎Smart Autopilot。

★　采用全新可變壓力模式和探測系統可獲得非導電物質的圖像：在VP模式下，通過低光毒性樣品交換艙后，將真空敏感樣品放入樣品倉，可確保在保留特征的同時快速獲得結果。

★　利用帶雙EDS端口的全新大樣品倉輕松分析精細樣品。出色的探測器立體角確保您獲得快速、無陰影的成像。

 

整合專業知識

★　該系統的觀察視野大大增加，從而可以輕松進行簡便的樣品導航。

★　對于要求極為嚴苛的樣品，全新的電子光學引擎Smart Autopilot大幅提升了成像速度。其可以節省時間，讓您無需進行耗時的對焦：此款引擎能夠驅動電子光學系統，放大倍率范圍從小于1倍到高達500,000倍，可全程進行自動對中、校準和聚焦。獲得專利的全新視差自動聚焦也包含在內，全新的自動擺動功能為您在數秒之內提供清晰圖像。

★　Python腳本可在三維STEM斷層掃描成像等自動化工作流中使用這些功能。

體驗出色的襯度

★　在您設置的工作前提下找到最有效點意味著您已經選擇了正確的參數組合，而實現理想圖像的訣竅則是找到該參數組合。Gemini無漏磁技術及其全新的Gemini 3鏡筒可為您呈現理想的參數組合，助您探索新信息。 ★　樣品上的磁場小于2 mT，能輕松實現磁疇襯度成像。采用可進行能量選擇的Inlens背散射探測器可執行能量光譜成像，采用環形背散射探測器可執行電子環形光譜成像。 ★　使用ZEN Connect將所有數據匯集在一起，細分并報告您的發現。

 

Gemini電子光學系統背后的科技

●　Gemini 1

基本原理簡介

FE-SEM專為高分辨率成像設計，性能的一個關鍵是其電子光學鏡筒。Gemini是為實現任何樣品的出色分辨率而特別設計的（尤其在低加速電壓下），可實現完整高效的探測，且操作簡單。

Gemini電子光學系統有以下三個主要特征：

✔ Gemini物鏡的設計結合了靜電場與電磁場，在大幅提升光學性能的同時大大降低了對樣品的影響。如此也可實現對磁性材料等具有挑戰性的樣品的高品質成像。 ✔ Gemini電子束推進器技術是一種集成光束減速器，確保了小尺寸的電子束斑和高信噪比。 ✔ Gemini Inlens的探測設計原理通過同時探測二次電子（SE）和背散射電子（BSE），大幅縮短到圖像的時間，確保了高效的信號探測。

針對您的應用，可以有以下優勢：

✔ SEM電子束對準可長期保持穩定，改變探針電流和加速電壓對系統幾乎沒有影響。 ✔ 幾乎無磁場泄露的光學系統可實現無失真高分辨率成像。 ✔ 使用Inlens SE探測器，可通過真正的表面敏感性SE 1電子技術生成圖像，從而只獲得樣品最頂層的信息。 ✔ 使用Inlens EsB探測器的探測設計理念，在非常低的電壓下獲得真實的材料成分襯度。    

●　Gemini 2

充分利用快速分析

任何樣品的全面表征都需要高性能的成像和分析，另外，如今的用戶都希望設備易于設置和操作。Gemini 2光學系統能滿足這些需求。

高分辨率成像與分析可無縫切換

✔ GeminiSEM 460配備具有雙聚光鏡的Gemini 2光學系統。 ✔ 連續調整電子束的電流強度，同時優化束斑大小。 ✔ 可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進行無縫切換。 ✔ 在更改成像參數后無需進行校準，省時省力。

保持靈活，高效工作

✔ 保持靈活：使用高電子束能量密度在低束流和高束流下進行高分辨率成像和分析，不受您選擇的電子束能量影響。 ✔ 樣品不會暴露于磁場中：實現了大觀察視野內的無失真EBSD圖案和高分辨率成像。 ✔ 樣品傾斜轉動時不影響電子光學系統的性能，磁性樣品也能輕松成像。 ✔ 選擇適合樣品的消荷電模式：局部電荷補償、腔室內可變壓力或NanoVP。  

●　Gemini 3

在低于1 kV條件下成像——整合專業知識

Gemini 3光學系統優化了低電壓和極低電壓下的分辨率并實現了襯度增強，確保從1 kV到30 kV的所有工作條件下成像效果可達高分辨率且包含兩個彼此協同運作的組件：Nano-twin物鏡和全新的電子光學引擎Smart Autopilot。此外，它還具有高分辨率電子槍模式和可選的樣品臺減速技術（Tandem decel）。 分辨率模式——讓您看到更多細節 通過兩種模式可獲得SEM圖像的更多細節和更多探測信號。在高分辨率電子槍模式下，電子束色差降低，從而實現了更小的束斑；在樣品臺減速技術模式下，為樣品施加減速電壓，從而可進一步提高1 kV以下的圖像分辨率并增強背散射探測器的檢測效率。

Nano-twin物鏡的優勢：

✔ 在低電壓和超低電壓下達到亞納米級分辨率，實現更出色的信號探測效率。 ✔ 與標準Gemini物鏡相比，在低電壓下的物鏡像差降低了三倍，從而使樣品上的磁場降低了三倍，約為1 mT。 ✔ 優化幾何結構和靜電場及磁場分布。 ✔ Inlens探測器在低電壓成像條件下的信號得到增強。 ✔ 這些特性提供了在低于1 kV的條件下完成亞納米級成像的能力，而無需將樣品浸入電磁場中。

工作原理：

✔ Smart Autopilot優化了通過鏡筒的電子軌跡，從而確保了在每個加速電壓下盡可能高的分辨率。 ✔ 該自動功能實現了在整個放大倍率范圍內（從1倍到2,000,000倍）的無縫對準自由切換，并將觀察視野增加了10倍，從而可以在單幅圖像中對13 cm的物體成像。 ✔ 32k×24k的圖像存儲分辨率與新的概覽模式相結合，確保在超大觀察視野內獲得無拼接的像素密度。